Tikslus liejimas silicio dioksiduviso liejimo proceso metu apima kelis liejimo būdus. Vakuuminio liejimo metu formos apvalkalas dedamas į vakuuminio liejimo kamerą, o dujos iš ertmės ištraukiamos per mažyčius formos korpuso tarpus.
Tikslus liejimas silicio dioksidu leidžia hidraulinei medžiagai geriau užpildyti ertmę, atkartoti jos formą, pagerinti liejimo tikslumą ir išvengti tokių defektų kaip poringumas ir nepilnas užpildymas.
Silicio dioksido precizinis liejimas kristalizuojasi esant slėgiui. Liejimo metu formos apvalkalas dedamas į slėginį indą. Pabaigus, slėginis indas iš karto užsandarinamas. Naudojimo metu į indą patenka aukšto -slėgio dujos arba retosios dujos, dėl kurių liejinys sukietėja veikiant slėgiui ir taip padidėja liejinio tankis.
Silicio dioksido liejimas, ypač karštas{0}}formos liejimas, yra plačiai naudojamas metodas. Išėmus formą iš krosnies, liejimas atliekamas aukštoje temperatūroje.
Tikslinė silicio dioksido liejimo kristalizacija yra ypač naudinga tam tikriems investiciniams liejimo komponentams, tokiems kaip magnetai ir turbinos mentės. Jei jų kristalų struktūrą sudaro stulpiniai kristalai, išdėstyti tam tikra kryptimi, jų veikimas gali būti žymiai pagerintas. Todėl tikslinės kristalizacijos technologija investicinio liejimo srityje sparčiai vystosi.
